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ULVAC爱发科 反应性气体分析仪 Qulee RGM-302

ULVAC爱发科 反应性气体分析仪 Qulee RGM-302

反应性气体分析仪Qulee RGM2-202是Qulee系列中对应蚀刻和CVD等反应性工艺的带有差动排气系统的工艺监控仪。ULVAC独创的离子源和排气系统结构，具有优良的抗活性气体腐蚀性能，长期稳定测量。金山科研平台现货促销特点

可以在反应过程中长时间进行稳定的测量

采用具有磁场的Claude离子源软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附，同时气体离解较少

紧凑型流量控制阀处理室到离子源的距离很短，可以快速响应分辨率

可以测量宽范围的压力10^-6to 13kPa（口径可选）

无需电脑也可以测量

One Click机能（对每个人来说都很容易，不需要复杂的操作）

连接传感器单元时，最大可以进行120℃的高温烘烤

离子源，二次电子倍增管的预防性维护分析管加载了可追溯性（专利申请中）

可进行氦气检漏，漏气测试

标准搭载软件（Windows 8/10/11）

金山科研平台现货促销用途

CVD/ALD/蚀刻设备

监测工艺中的反应气体

蚀刻和清洁工艺的末端监测

残留气体测量

检漏

金山科研平台现货促销规格

型号	RGM2-202	RGM2-302
传感器
质量分离方式	四极型质量分析仪
质量数范围	1～200 amu	1～300 amu
分解能	M/△M=1M (10%P.H.)
检出器	SEM/法拉第杯
感度	1×10-3A/Pa
最小检知分圧	1×10-10Pa
离子源	带磁铁的闭合离子源
灯丝	V字型 Ir/Y2O31个
电力电压	20～70 eV
放射电流	10μA
放大器范围	1×10-5～1×10-12A
可烘烤温度	120℃
差動排气系统
气体导入阀	带孔流量控制阀
最大采样压力	13kPa
差动排气系统	带中间排气，吹扫的涡轮分子泵。
涡轮分子泵	67L/s：N2
前级泵	DIS090
皮拉尼真空计	SW1-1
电离真空计	GI-M2
质量	排气系：57kg／控制系：38kg
效用
电源电压	AC100V 15A
压缩空气	Dry N2：0.4～0.7MPa (Φ6一触式配件)
控制器单元
One Click功能	有 / He / H2O / N2/ O2/ Any gas
PC交互	RS-232C / 485
外部入输出	类似物输入2点（0-10V）
	设定点输出2点（异常、警告）
	外部联锁（压力保护）
其他
烘烤加热器	带式加热器
高度调整架	标准
传感器部一控制部链接电线	约5m
接口	Ethernet
软件	Qulee QCS Ver.4.2以降（Windows 8/10/11）适用
选项	PC