金山科研平台现货促销
ULVAC爱发科 反应过程气体监视器 RGM2-201F
ULVAC爱发科 反应过程气体监视器 RGM2-201F
金山科研平台现货促销特点
排气系统和控制系统集成,实现纵向放置,即使在空间有限的生产线上也可以进行反应气体监测,因为足迹是世界上最小的。
在维护期间,灯丝套件的更换速度大大提高2名工人在10分钟内完成了120分钟的工作。
使用双灯丝,即使第一根灯丝断线,也可以在不停止生产线的情况下进行气体分析。
采用触摸屏,可以实时检查情况。
从启动到测量的操作仅在个人计算机上完成。
采用敝公司独特的带磁铁的Closed Ion Source,即使在反应性过程中也可以长时间稳定测量。
由于具有低气体解离和高灵敏度的电离室,因此仅使用法拉第杯就可以进行高灵敏度的气体分析。
一种紧凑的流道控制阀,可防止热反应引起的分解和吸附。
缩短了从工艺室到离子源的距离,可以快速响应分解。
增强预防保护功能离子源,二次电子倍增管的预防性保护安装分析管的可追溯性功能 (专利5016031号)
标准软件与Windows 8/10/11兼容。
金山科研平台现货促销用途
CVD·ALD·Etching装置
过程中反应气体的监测
蚀刻清洗过程的端点监视器
残余气体测量
金山科研平台现货促销规格传感器
质量数范围 (amu) | 1~200 |
分辨率 (M/ΔM) | M/ΔM=1M(10%P.H.) |
探测器 | 法拉第杯 (FC) |
灵敏度 (A/Pa)*1 | 1e-5A/Pa (孔口直接引入,Ie=50uA)Ee50V时,N2气体=5e-4Pa |
最小检测分压 (Pa)*1 | e-10Pa台(EE50V, Ie500uA时) |
全压测定功能*1 | 有 |
全压测定范围*1 | 1e-3~e-6 Pa台 |
离子源 | 带磁铁的Closed Ion Source |
灯丝 | Ir/Y2O32支 (其中1支为备用) |
电离电压 (EE;eV) | 20~70eV (Ie50uA时建议使用50V设置) |
发射电流 (IE;uA) | 50uA/500uA (流程测量建议使用EE50V、50uA) |
*1 备用灯丝 (FIL2) 不适用
差动排气系统
连接法兰 | VCR1/2"螺母等价品 |
规格压力 | 从0.5~30Pa/10~500Pa中选择 |
涡轮分子泵 | UTM70B(70L/s) |
前置泵 | 无前导:KF16工作保证正线压力:500Pa以下用于确认正线压力的皮拉尼真空计:SW100-A |
装置压力监测用真空计 | 电容测量仪CCMT系列 |
实用程序
电源电压 | 选择AC100~120V/6A, AC200~220V/3A |
压缩空气 | Dry N2:0.4MPa |
其他
质量 | 20Kg |
控制单元 | 触摸屏 |
块状加热器 | 110°C±10°C |
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