ULVAC爱发科 小型高频溅射设备 RFS-201 绝缘/金属/半导体材料用

2024-11-06

金山科研平台现货促销

ULVAC爱发科 小型高频溅射设备 RFS-201 绝缘/金属/半导体材料用

ULVAC爱发科 小型高频溅射设备 RFS-201 绝缘/金属/半导体材料用

配有RF电源的小型高频溅射设备。可以实现金属,半导体,绝缘体成膜,因此非常适用于基础研究开发等实验用途。

金山科研平台现货促销特点

绝缘,金属,半导体材料的溅射设备。

主泵使用油扩散泵。

可以在Φ80mm×1阴极上单层成膜。

通过传统溅射,溅射速度可达到20nm/min(SiO2)

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规格
型式RFS-201
真空性能极限压力6.6×10-4Pa
排气时间6.6×10-3Pa/5min
真空槽真空槽金属腔 (200mm(W)×250mm(D)×150mm(H))
阴极Φ80mm、1元
基板推荐尺寸Φ80mm×t1-5mm
有効成膜范围50mm
成膜速度SiO2SiO2, 成膜20nm/min以上
膜厚分布SiO2SiO2, 成膜50mm范围±8%以内
基板加热温度Max 350℃
基板/电极间距30~50mm(可変)
排气系统主泵油扩散泵(水冷) 150L/sec
液体氮气捕集器选项
補助泵油回转泵 100L/min
油雾捕集器油雾捕集器 OMT-100A
操作系统主阀插板阀
補助阀三通阀
自动泄露阀选项
操作手动
控制系统RF电源Max 300W (0~300W可変)
皮拉尼真空计G-TRAN
电离真空计选项
设置最大尺寸764mm(W)×723mm(D)×1648mm(H)
质量260kg

效用
型式RFS-201
所要电气量200V 单相 50/60Hz 2.8kVA
接地端子A种 (接地抵抗値 10Ω以下)
所要水量5.0 L/min (水温:25℃以下、水圧:200~300kPa(表压))
组合连接 (电源)橡胶绝缘软电缆(带R2-5压接端子) 4m
组合连接 (接地)接地电缆(铜板) 4m
组合连接(水)涤纶软管(内径9mm×外径15mm)、4m(2本)

尺寸图

真空槽内部构成基本构成

[1]罩子
[2]阴极
[3]阳极
[4]快门
[5]电流导入端子
[6]热电偶导入端子
[7]真空计端口
[8]支架
[9]背板
[10]靶材
[11]准备端口
[12]正门

支架图

[標準]

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